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중국, 복수디자인 출원 기준 전면 정비… ‘1출원·여러 디자인’ 명확화로 글로벌 디자인 경쟁 대응
중국이 디자인 보호 제도의 일관성과 예측 가능성을 강화하기 위해 복수디자인 출원에 대한 공식 지침을 발표했다. 중국 국가지식산권국(CNIPA)은 복수디 ...
이성용 기자   |   2025.11.30 15:17
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"남이 먼저 내 디자인 등록? 이제는 불가능하다"... 도용 디자인 즉시 막는 새 보호장치 가동
타인이 자신의 디자인을 먼저 등록해버리는 ‘악의적 선점’ 문제를 막기 위한 디자인보호법 개정이 오는 11월 28일부로 본격 시행된다. 지식재산처는 ...
선우정 기자   |   2025.11.23 14:56
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"디자인 등록, 더 쉽고 더 빠르게"... 지식재산처, 부분디자인 명칭 요건 완화 등 제도 전면 간소화
<기사요약>디자인 출원서 불필요 항목 삭제, 행정 절차 간소화부분디자인 명칭 자유 기재 가능 → 국제 기준 부합국민의 디자인권 확보 및 심사 효 ...
박진석 기자   |   2025.11.14 14:45
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영국, 디자인 보호 ‘전면 리빌드’ 착수... UKIPO, 11월 27일까지 산업 전반 의견수렴
영국 지식재산청(UKIPO)이 디자인 산업 보호 체계를 뿌리부터 손보는 개편에 나섰다. 이번 의견수렴은 11월 27일까지 진행되며, 연간 약 1,000억 파운드(약 ...
박진석 기자   |   2025.10.04 16:34
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미국 특허청, AI 기반 디자인 심사 도구 '디자인 비전' 출시로 심사 효율성 혁신
미국 특허상표청(USPTO)이 디자인 심사에 인공지능(AI)을 활용하는 최초의 도구인 '디자인 비전(DesignVision)'을 출시한다고 발표했다. 이는 USPTO의 심사관들 ...
박진석 기자   |   2025.08.01 03:03
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글로벌 디자인 혁신 '활활', 中 출원 1위… LG전자 글로벌 3위 'K-디자인' 저력
세계지식재산권기구(WIPO)가 '2025년 헤이그 연례보고서(Hague Yearly Review 2025)'를 발표하며, 2024년 전 세계 산업디자인의 국제 출원 및 등록 현황을 공개했다 ...
이성용 기자   |   2025.06.28 17:47
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디자인 유사여부 판단기준, 사용자 중심으로 혁신... 특허청, 유사 디자인 중복 등록 막고 출원 편의 높인다
특허청이 사용자 중심의 디자인 제도 구현을 위해 '디자인심사기준'을 개정하고 6월 16일부터 시행한다고 밝혔다. 이번 개정은 기업, 개인, 디자이너 등 ...
선우정 기자   |   2025.06.15 12:10
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디자인 출원 '원샷' 등록하려면... 도면·물품명 기재부터 '정확'해야
디자인 출원 시 겪는 가장 흔한 난관은 바로 ‘도면 및 디자인 설명 작성 오류’인 것으로 나타났다. 특허청에 따르면 '24년 디자인 등록 거절 결정 사유 ...
박진석 기자   |   2025.05.25 12:10
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메타버스 디자인 보호, 국제적 발맞춤 '시급'... 유럽과 달리 일본, 미국, 한국은 소극적
가상현실(VR)과 증강현실(AR) 기술의 발전으로 현실과 같은 사회·경제·문화 활동이 가능한 메타버스(Metaverse) 시대가 성큼 다가온 가운데, 가상공간에서 ...
박진석 기자   |   2025.05.06 00:04
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美 특허청, 디자인 출원 '우선 심사' 전격 중단... 폭증하는 신청에 심사 적체 심화
미국 특허상표청(USPTO)이 오는 2025년 4월 17일부터 디자인 출원에 대한 우선 심사 절차를 잠정적으로 중단한다고 발표하며, 관련 업계에 적지 않은 파장을 ...
박진석 기자   |   2025.04.29 23:23
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