반도체 등 나노부품의 대량생산을 위한 핵심 장비가 국내 연구진에 의해 개발되었다.
한국기계연구원 지능형정밀기계연구본부 이재종 박사팀은 과학기술부의 21세기 프론티어 연구개발사업의 일환으로 추진 중인 나노메카트로닉스 기술개발사업단(단장 이상록 박사)의 지원 하에 “기존 반도체 제작 장비가 가지고 있는 회절한계를 극복하고, 반도체공정에 적용할 수 있는 선폭 70nm 이하의 패턴을 제작할 수 있는 나노 임프린팅 장비를 개발했다”고 밝혔다.
 
나노 임프린팅 기술이란 접촉 방식으로 나노미터 크기의 패턴을 웨이퍼 등에 인쇄하는 프린팅기술의 일종으로 개발된 나노 임프린팅 장비의 핵심기술은 웨이퍼 형상에 따라 서로 다르게 힘을 가할 수 있는 특징을 가지고 있으며, 상온에서 미소한 압력으로 나노 임프린팅이 가능하다.
 
개발팀은 본 장비의 개발과 함께 선폭 20nm의 스탬프 제작 공정기술을 개발하였으며, 4인치 웨이퍼를 기준으로 선폭 70nm이하의 나노 임프린팅이 가능한 나노 임프린팅 장비의 시장진출이 가능할 것으로 기대하고 있다.
 
개발책임자인 이재종 박사는 “나노부품의 대량생산을 위한 핵심 장비기술의 확보로 기능성 광학부품(그레이팅 렌즈, 광학필터 등), 나노센서 및 나노구조물을 갖는 나노부품 제작분야에 파급효과가 매우 클 것”으로 전망하며, “본격적인 나노 임프린팅 장비 실용화를 선도하고, 세계시장 선점에 유리한 위치를 확보할 수 있는 초석을 마련했다”고 밝혔다.
 
나노 임프린팅 장비 시장은 2009년에 약 4,600억원 이상으로 추정되고 있으나 나노 임프린팅 공정이 차세대 리소그래피 기술로 각광을 받게 되면서 급속히 성장할 것으로 예측되고 있다.
 
한 예로 지난 5/8~5/12 미국과학기술협회(nsti)에서 주관한 nanotech2005 발표자료에 의하면 향후 3~4년 이내에 나노 임프린팅 장비 시장이 5조원 정도 형성될 것으로 발표되었다.

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