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한국과 중국이 고품질 특허를 서로 빠르게 취득할 수 있는 길이 열리고 상표 보호를 위한 정부 간 협력 인프라가 확충되는 등 양국 간 지재권 보호 환경이 개선된다.
 
박원주 특허청장은 10월 30일 그랜드워커힐 호텔(서울시 광진구)에서 션창위 중국 국가지식산권국장과 회담을 갖고, 한·중 지재권 협력을 확대하기 위한 다양한 협력사업에 합의했다.
 

▲ 박원주 특허청장(왼쪽 2번째), 션창위 중국 국가지식재산권국장(왼쪽 1번째) 이 양국 협력에 관한 양해각서에 서명 후 기념촬영을 흐고 있다     © 특허뉴스

먼저, 한·중 간 특허공동심사프로그램(CSP)이 내년 1월 1일부터 시행된다. CSP는 양국에 동일 발명을 특허출원한 출원인의 신청이 있을 경우, 양국 특허청 간 선행기술정보를 공유하는 한편 다른 출원 건보다 우선해서 심사해 주는 프로그램이다.
 
이 프로그램을 활용하면 한국과 중국에 공통으로 출원되는 특허가 고품질 심사를 통해 빠르게 등록되어 보호받게 된다. 내년 1월 한·중 CSP가 개시되면 한국은 중국과 CSP를 시행하는 최초의 국가가 된다.
현재 전 세계적으로 시행 중인 CSP는 한-미(’15.9∼), 미-일(’15.8∼)뿐이다.
 
이와 더불어 양 청장은 ‘상표’ 분야와 ‘지재권 보호’ 분야의 협력 체계를 새롭게 구축하기로 합의했다. 이는 중국 정부의 조직개편으로 지재권에 관한 총괄 기능이 중국 지식산권국으로 일원화된 것에 따라 추진된 것이다.
이 합의로 인해 우리 기업의 협력 수요가 많은 상표와 지재권 보호 분야의 협력이 한층 강화될 것으로 전망된다.
 
세부적인 사항으로는 먼저 ‘상표 전문가회의’와 ‘지재권 보호 전문가회의’가 신설된다. 상표권 등록과 지재권 보호 정책에 관한 양국 간 회의체 구성은 이 분야에 관한 양국의 관심사를 다루는 당국 간 협의체가 구성됨을 의미한다. 이와 더불어 상표 심사 및 관리에 필수적 정보인 상표 공보 데이터 및 유사군코드 대응표의 교환에도 합의했다. 이러한 정보 교환 확대는 한·중 간 상표출원이 큰 폭으로 증가하고 있는 상황에서 기업들의 상표권 관리와 보호에 많은 도움이 될 것으로 기대된다.
’17년 기준 한-중 간 상표 출원규모는 한국→중국 약 1.6만건, 중국→한국 4.9천건이다.
또한 5년간(’12-’17) 추이는 한국→중국 출원이 연평균 22% 증가했고, 중국→한국은 연평균 23% 증가했다.
 
박원주 청장은 “중국은 우리의 최대 교역 파트너로 그 만큼 국내 기업의 지재권의 보호 수요가 높은 국가”라고 전제하면서, ”중국의 명실상부한 지재권 총괄 기관으로 자리 잡은 중국 지식산권국과 차질 없는 합의 사항 이행을 통해 한·중 양국의 기업들이 더 편리하게 권리를 획득하고, 획득한 권리는 더 강하게 보호받을 수 있도록 협력 체계를 구축해 나갈 것“이라고 밝혔다.

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