[종합] 한·중·일 디자인포럼 1일 개최... 디자인 창작 및 보호 위한 소통의 장 마련

한국·중국·일본 특허청 및 산업계 전문가 한 자리에

특허뉴스 박진석 기자 | 기사입력 2022/07/28 [12:05]

[종합] 한·중·일 디자인포럼 1일 개최... 디자인 창작 및 보호 위한 소통의 장 마련

한국·중국·일본 특허청 및 산업계 전문가 한 자리에

특허뉴스 박진석 기자 | 입력 : 2022/07/28 [12:05]

 

특허청은 ‘2022년 한··일 디자인포럼(이하 포럼)’81일 오후 2시부터 온라인으로 개최한다고 28일 밝혔다.

 

올해 11회째를 맞이하는 이번 포럼은 국제경제 확장 및 웹 3.0시대에서의 디자인 보호를 주제로 개최된다. --중 특허청이 매년 순차적으로 개최하는 이번 포럼은 일본 특허청이 주최한다.

 

이번 포럼에서는 산업디자인의 국제등록에 관한 헤이그 협정(‘22.5.5)으로 중국이 국제디자인출원제도에 합류함에 따라, 3(··)에 디자인 동시 출원 시 알아두어야 할 각국 디자인 제도와 심사 실무를 공유한다.

또한, ··일 산업계 연사를 초청하여 메타버스나 NFT 등 신기술과 디자인, 3.0시대에 대응하는 업계 동향 등을 다룰 예정이다.

 

온라인 포럼은 관련 링크에서 사전신청을 통해 누구나 참석 가능하며, 한국·중국·일본어가 동시통역으로 제공된다. (관련링크: https://us02web.zoom.us/webinar/register/WN_mtCrWluXR9i7KGANsMnxYA)

 

특허청 목성호 상표디자인심사국장은 최근 중국·일본의 디자인 관련 법·제도 및 산업계 동향을 파악할 수 있는 좋은 기회이므로, 관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다고 말했다.

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