한·일·중 디자인포럼 성황리 개최, 한국 헤이그 협정 가입 10주년 기념

한국, 일본, 중국 디자인 전문가들 한자리에 모여 국제 디자인 보호 논의

선우정 기자 | 기사입력 2024/09/03 [15:30]

한·일·중 디자인포럼 성황리 개최, 한국 헤이그 협정 가입 10주년 기념

한국, 일본, 중국 디자인 전문가들 한자리에 모여 국제 디자인 보호 논의

선우정 기자 | 입력 : 2024/09/03 [15:30]

▲ 김시형 특허청 차장이 개회식을 마치고, 관계자들과 기념 촬영을 하고 있다(사진=특허청)  © 특허뉴스


한국 특허청은 9월 3일 서울 FKI타워 컨퍼런스센터에서 '제13회 한·일·중 디자인포럼'을 성공적으로 개최했다. 이번 포럼은 한국의 헤이그 협정 가입 10주년을 기념하며, 한국, 일본, 중국의 특허청 관계자와 인테리어·건축 디자인 분야의 주요 인사들이 참석해 디자인 보호에 대한 심도 있는 논의를 펼쳤다.

 

포럼에서는 3국의 특허청 관계자들이 각국의 최신 디자인 보호 제도와 헤이그 시스템 이용 현황을 소개하며, 일본과 중국의 효율적인 디자인 보호 전략에 대한 유용한 정보를 공유했다. 또한, 한국의 상업 공간 인테리어 디자인 사례와 글로벌 시장에서의 디자인 경쟁력 강화 전략도 발표되었다.

 

세계지식재산기구(WIPO)의 다렌 탕 사무총장은 영상 축사를 통해 한국이 헤이그 시스템을 통한 국제 디자인 출원 건수에서 세계 3위를 기록한 것을 높이 평가하며, 이번 포럼이 국제적인 디자인 보호와 발전에 큰 기여를 할 것이라고 강조했다.

 

김시형 특허청 차장은 "이번 포럼이 3국의 협력을 통해 지식재산권 보호를 강화하고, 창의적인 아이디어와 디자인이 활발히 창출되는 기반이 되기를 희망한다"고 밝혔다.

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